[发明专利]旋转体的制造方法、感光体的制造方法有效
| 申请号： | 201410638177.4 | 申请日： | 2014-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN105093865B | 公开（公告）日： | 2019-11-08 |
| 发明（设计）人： | 小川宽晃;涉谷博 | 申请（专利权）人： | 富士施乐株式会社 |
| 主分类号： | G03G5/00 | 分类号： | G03G5/00;B05C3/09 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 丁香兰;庞东成 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供旋转体的制造方法、感光体的制造方法。可抑制因浸渍涂布于基体的涂液的自重而在基体的上部产生的液体垂挂。旋转体的制造方法具有：第1工序，使圆筒状或圆柱状的基体下降而浸渍于涂液，在该基体的上部露出该涂液的状态停止该下降；第2工序，在该第1工序的停止位置以预先设定的时间保持该基体；第3工序，在该第2工序后使该基体进一步下降；和第4工序，在该第3工序后从该涂液中提升该基体。 | ||
| 搜索关键词： | 旋转体 制造 方法 感光 | ||
【主权项】：
1.一种旋转体的制造方法，其中，该方法具有：第1工序，使圆筒状或圆柱状的基体下降而浸渍于涂液中，在该基体的上部露出该涂液的状态停止该下降；第2工序，在该第1工序的停止位置以预先设定的时间保持该基体；第3工序，在该第2工序后，使该基体进一步下降；和第4工序，在该第3工序后，从该涂液中提升该基体。
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