[发明专利]一种基于四向虚光栅的二维干涉图相位提取方法有效
| 申请号： | 201410642147.0 | 申请日： | 2014-11-11 |
| 公开（公告）号： | CN104359563A | 公开（公告）日： | 2015-02-18 |
| 发明（设计）人： | 刘克;陈晨;李艳秋 | 申请（专利权）人： | 北京理工大学 |
| 主分类号： | G01J9/02 | 分类号： | G01J9/02 |
| 代理公司： | 北京理工大学专利中心 11120 | 代理人： | 刘芳;仇蕾安 |
| 地址： | 100081 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种基于四向虚光栅二维干涉图的相位提取方法，具体步骤为：步骤101、设定两个参考频率，基于所述参考频率生成四种含一定相移量的多幅参考干涉图，将所述参考干涉图称为虚光栅；步骤102、将待处理干涉图与每一虚光栅相乘，得到多幅莫尔条纹图；步骤103、针对每一莫尔条纹图提取其低频部分，获得低频莫尔条纹强度图，对低频莫尔条纹强度图进行移相计算，获取待处理干涉图的相位。该方法能够处理所采集到的二维干涉图并得到四个方向的相位，不仅具有较高的提取精度，而且具有较强的抗噪性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 光栅 二维 干涉 相位 提取 方法 | ||
【主权项】：
一种基于四向虚光栅的二维干涉图相位提取方法，其特征在于，具体步骤为： 步骤101、设定两个参考频率，基于所述参考频率生成四种含一定相移量的多幅参考干涉图，将所述参考干涉图称为虚光栅； 步骤102、将待处理干涉图与每一虚光栅相乘，得到多幅莫尔条纹图； 步骤103、针对每一莫尔条纹图提取其低频部分，获得低频莫尔条纹强度图，对低频莫尔条纹强度图进行移相计算，获取待处理干涉图的相位。
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