[发明专利]玻璃基板的制造方法在审
| 申请号： | 201410642262.8 | 申请日： | 2014-11-11 |
| 公开（公告）号： | CN104625939A | 公开（公告）日： | 2015-05-20 |
| 发明（设计）人： | 宫谷克明;萧桂瑛 | 申请（专利权）人： | 旭硝子株式会社 |
| 主分类号： | B24B37/00 | 分类号： | B24B37/00 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 杨海荣;穆德骏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种玻璃基板的制造方法，所述玻璃基板的制造方法包括：研磨工序，所述研磨工序使用研磨垫和研磨液对保持在研磨用载具的保持孔中的玻璃基板的主平面进行研磨，所述研磨垫具有肖氏D硬度为40以下的发泡树脂的研磨层，所述研磨液含有初级粒径为3～50nm的二氧化硅作为磨粒；和清洗工序，所述清洗工序对玻璃基板的表面进行清洗，所述玻璃基板的制造方法的特征在于，所述研磨工序中，使用将1μl研磨液滴加至研磨垫的研磨面起50秒后研磨液的接触角为50°以下的研磨垫和研磨液对玻璃基板的主平面进行研磨。 | ||
| 搜索关键词： | 玻璃 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种玻璃基板的制造方法，所述玻璃基板的制造方法包括：研磨工序，所述研磨工序使用研磨垫和研磨液对保持在研磨用载具的保持孔中的玻璃基板的主平面进行研磨，所述研磨垫具有肖氏D硬度为40以下的发泡树脂的研磨层，所述研磨液含有初级粒径为3～50nm的二氧化硅作为磨粒；和清洗工序，所述清洗工序对玻璃基板的表面进行清洗，所述玻璃基板的制造方法的特征在于，所述研磨工序中，使用将1μl研磨液滴加至研磨垫的研磨面起50秒后研磨液的接触角为50°以下的研磨垫和研磨液对玻璃基板的主平面进行研磨。
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