[发明专利]无源核子料位计的背景辐射修正测量方法及其系统

摘要

本发明涉及物料料位测量领域，公开了一种无源核子料位计的背景辐射修正测量方法及其系统，在预设时间段T1内，先测得物料的进入与输出过程具备循环周期特性的容器内部的物料辐射与容器内部及外部的背景辐射之和；再提取所述物料辐射和背景辐射之和中的最小值或与该最小值相关的值作为背景辐射特征值；然后根据设定好的数据模型对所述背景辐射特征值进行分析和运算获得背景辐射修正数据；最后根据背景辐射修正数据对无源核子料位计的测量进行修正。与现有技术相比，本发明提升了料位测量的准确性，降低了背景测量的成本。

主权项

一种无源核子料位计的背景辐射修正测量方法，其特征在于，包括以下步骤：S1：在预设时间段T1内，测得物料的进入与输出过程具备循环周期特性的容器内部的物料辐射与容器内部及外部的背景辐射之和；S2：提取所述物料辐射和背景辐射之和中的最小值或与该最小值相关的值作为背景辐射特征值；S3：根据设定好的数据模型对所述背景辐射特征值进行分析和运算获得背景辐射修正数据；S4：根据背景辐射修正数据对无源核子料位计的测量进行修正；其中，所述背景辐射特征值为所述容器空仓时测得物料辐射和背景辐射之和；且在所述S4中，通过以下任意一种方式对无源核子料位计的测量进行修正：对无源核子料位计的测量结果进行修正、对无源核子料位计的测量模型进行修正、对与无源核子料位计的测量结果相关的输出参数或控制指令进行修正。