[发明专利]一种工业CT机X射线管用透射靶及其制备方法有效
| 申请号： | 201410652918.4 | 申请日： | 2014-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN104409304A | 公开（公告）日： | 2015-03-11 |
| 发明（设计）人： | 马玉田;刘俊标;韩立;霍荣岭 | 申请（专利权）人： | 中国科学院电工研究所 |
| 主分类号： | H01J35/08 | 分类号： | H01J35/08;H01J9/02;C23C14/35;C23C14/16 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人： | 关玲 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种工业CT机X射线管用透射靶及其制备方法，有钨/铝靶和钨/金刚石靶两种类型。所述的钨-铝靶包括靶面(1)和铝基体(201)；所述的钨-金刚石靶包括靶面(1)、金刚石基体(5)和铝支撑架(202)；所述的靶面(1)为圆形的钨薄膜；所述的铝基体(201)和金刚石基体(5)均为圆形薄片；所述的钨-金刚石靶的铝支撑架(202)的中心开有一个通孔，所述的金刚石基体(5)放置在铝支撑架(202)的中心通孔内，与铝支撑架(202)焊接在一起；所述的靶面(1)采用磁控溅射方法镀在铝基体(201)表面或金刚石基体(5)表面。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 工业 ct 射线 管用 透射 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种工业CT机X射线管用透射靶，其特征在于：所述的透射靶包括钨‑铝靶和钨‑金刚石靶两种类型；所述的钨‑铝靶包括靶面(1)和铝基体(201)；所述的钨‑金刚石靶包括靶面(1)、金刚石基体(5)和铝支撑架(202)；所述的靶面(1)为圆形的钨薄膜；所述的铝基体(201)和金刚石基体(5)均为圆形薄片；所述的钨‑金刚石靶的铝支撑架(202)的中心开有一个通孔，所述的金刚石基体(5)放置在铝支撑架(202)的中心通孔内，与铝支撑架(202)焊接在一起；所述的靶面(1)采用磁控溅射方法镀在铝基体(201)表面或金刚石基体(5)表面。
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