[发明专利]钨硅靶材的制造方法在审
申请号: | 201410668721.X | 申请日: | 2014-11-20 |
公开(公告)号: | CN105671483A | 公开(公告)日: | 2016-06-15 |
发明(设计)人: | 姚力军;相原俊夫;大岩一彦;潘杰;王学泽;张涛 | 申请(专利权)人: | 宁波江丰电子材料股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/06 | 分类号: | C23C14/06;B22F3/15 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 张亚利;骆苏华 |
地址: | 315400 浙江省宁波*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 一种钨硅靶材的制造方法,包括:提供钨粉和硅粉;利用混粉工艺将所述钨粉和硅粉混合均匀,以形成混合粉末;利用冷压工艺对所述混合粉末进行致密化处理,以形成钨硅靶材坯料;将所述钨硅靶材坯料置于包套内,利用热等静压工艺对所述包套内的钨硅靶材坯料进行致密化处理;去除所述包套,得到钨硅靶材。本发明的技术方案能够使形成的钨硅靶材具有较高的致密度、以及均匀的内部组织结构。 | ||
搜索关键词: | 钨硅靶材 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种钨硅靶材的制造方法,其特征在于,包括:提供钨粉和硅粉;利用混粉工艺将所述钨粉和硅粉混合均匀,以形成混合粉末;利用冷压工艺对所述混合粉末进行致密化处理,以形成钨硅靶材坯料;将所述钨硅靶材坯料置于包套内,利用热等静压工艺对所述包套内的钨硅靶材坯料进行致密化处理;去除所述包套,得到钨硅靶材。
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