[发明专利]蒸发源、成膜设备及其成膜方法有效

专利信息
申请号: 201410670844.7 申请日: 2014-11-20
公开(公告)号: CN104328377B 公开(公告)日: 2017-09-15
发明(设计)人: 张金中;秦向东 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C14/12;C23C14/04
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司11243 代理人: 许静,黄灿
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及有机器件制备技术领域,公开了一种蒸发源、成膜设备及其成膜方法,通过设置蒸发源的蒸镀面与待蒸镀基板的尺寸配合,从而在蒸镀过程中可以不用移动蒸镀面,一次完成整个基板上的膜层蒸镀,保证了在蒸镀过程中,蒸镀到整个基板上的蒸气处于同一蒸气压下,成膜均匀。同时,本发明的技术方案还具有蒸镀工艺时间短,生产效率高的优点。
搜索关键词: 蒸发 设备 及其 方法
【主权项】:
一种蒸发源,用于在待蒸镀基板上蒸镀膜层,其特征在于,所述蒸发源包括蒸气产生部件和蒸镀部件,所述蒸镀部件具有与所述基板的尺寸配合的蒸镀面,所述蒸气产生部件产生的蒸气通过所述蒸镀面蒸镀到整个所述基板上,形成膜层,且在蒸镀过程中,所述蒸镀面相对所述基板的位置固定;所述蒸发源还包括控制阀,设置在所述蒸气产生部件的出气口处,所述控制阀用于控制所述蒸气产生部件的内部蒸气压。
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