[发明专利]一种硅晶片循环抛光装置及循环抛光方法

摘要

本发明涉及一种硅晶片循环抛光装置及循环抛光方法。该装置包括抛光液处理系统，其包括：第一储液槽中设有分液漏斗和精密PH计，通过管路与抛光系统连通，在管路上设有滤芯和恒流泵；第二储液槽通过抛光系统的一出液管路与抛光系统连通，第三储液槽通过管路分别与第一、第二储液槽连通，在连通的管路上均设有滤芯和恒流泵；抛光系统包括抛光头和抛光垫，其上设有两个出液管路；抛光垫清洗系统包括储液槽，通过管路和抛光系统的一出液管与抛光系统连通，在管路上设有恒流泵。采用本发明循环抛光装置及方法可以维持硅晶片循环抛光过程中粗糙度的稳定，延长抛光液的使用时间，节约了成本。本发明方法简单可控，易于实现大规模的工业生产。

主权项

一种硅晶片循环抛光装置，该装置包括抛光系统、所述抛光系统包括抛光头、硅晶片和抛光垫，其上有两个出液口并设有闭合装置；抛光垫清洗系统；其特征在于，该装置还包括抛光液处理系统，所述抛光液处理系统包括第一储液槽，在第一储液槽中设有分液漏斗和精密PH计，通过管路与抛光系统连通，在连通管路上设有第一滤芯和第一恒流泵，第二储液槽通过抛光系统的一出液口与抛光系统连通，第三储液槽通过管路分别与第一、第二储液槽连通，在连通的管路上均设有滤芯第二、第三滤芯和第二、第三恒流泵；所述抛光垫清洗系统包括第四储液槽和管路，第四储液槽通过管路和抛光系统的另一出液口与抛光系统连通，连通管路上设有第四恒流泵。