[发明专利]一种黄瓜大孢子培养中克服再生植株花打顶的方法有效
| 申请号： | 201410678014.9 | 申请日： | 2014-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN104521750A | 公开（公告）日： | 2015-04-22 |
| 发明（设计）人： | 刘立功;李军;张峰;王晶;赵泓;于拴仓;崔瑾;杨红红 | 申请（专利权）人： | 北京市农林科学院 |
| 主分类号： | A01H4/00 | 分类号： | A01H4/00 |
| 代理公司： | 北京五洲洋和知识产权代理事务所(普通合伙) 11387 | 代理人： | 刘春成 |
| 地址： | 100097 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明属于植物组织培养领域，提供一种黄瓜大孢子培养中克服再生植株花打顶的方法，该方法通过将发生花打顶现象的再生植株移至恢复培养基进行恢复培养，并控制所述恢复培养的光照条件、温度条件、湿度条件，将所述发生花打顶的再生植株恢复为正常再生植株。所述恢复培养基为：以MS基本培养基为基础，添加赤霉素0.3-1.0mg/L。本发明通过恢复培养基，与光照条件、温度条件、湿度条件协同作用，可以使发生花打顶的小植株打破花打顶生理障碍，大大提供黄瓜大孢子培养的植株再生率；本发明操作简便易行，成本低廉，适合在黄瓜大孢子培养中广泛推广使用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 黄瓜 大孢子 培养 克服 再生 植株 打顶 方法 | ||
【主权项】：
一种黄瓜大孢子培养中克服再生植株花打顶的方法，其特征在于：该方法通过将发生花打顶现象的再生植株移至恢复培养基进行恢复培养，并控制所述恢复培养的光照条件、温度条件、湿度条件，将所述发生花打顶的再生植株恢复为正常再生植株。
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