[发明专利]一种真彩色全息图案及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201410682790.6 申请日: 2014-11-24
公开(公告)号: CN104536261B 公开(公告)日: 2019-12-13
发明(设计)人: 夏金松;李一;李晓平;张永 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;G02B5/32
代理公司: 42201 华中科技大学专利中心 代理人: 曹葆青
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种真彩色全息图案及其制备方法,属于微纳器件光刻加工领域,可应用于防伪或者包装行业。本发明通过光栅结构色的组合实现真彩色,即实现了CIE色域与光栅结构的一一对应。本发明方法为:(1)按照本发明中真彩色方案设计版图(2)清洗硅片,在硅片上旋涂电子抗蚀胶;(3)通过光刻工艺在电子抗蚀胶上形成结构;(4)采用刻蚀工艺在硅片上形成结构,去除电子抗蚀胶得到有结构的硅片;(5)采用纳米压印工艺将结构转移到聚合物薄膜上;(6)采用磁控溅射工艺在聚合物薄膜的结构上溅射高折射率材料;(7)在高折射率材料的结构上旋涂聚合物形成保护层。通过本方案增加了全息图案能表现出的色彩,使得产品更难以仿造。
搜索关键词: 一种 彩色 全息 图案 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种真彩色全息图案的制作方法,用于包装领域的防伪,其特征在于,所述方法包括如下步骤:/n(1)版图设计,按真彩色定义的光栅结构设计版图;/n(2)清洗硅片,在硅片上旋涂电子抗蚀胶;/n(3)通过电子束光刻工艺在电子抗蚀胶上形成步骤(1)中设计的光栅结构;/n(4)采用干法刻蚀将光栅结构转移到硅片上,去除电子抗蚀胶得到有光栅结构的硅片;/n(5)采用纳米压印工艺将光栅结构转移到聚合物薄膜上;/n(6)采用磁控溅射工艺在聚合物薄膜的光栅结构上溅射高折射率材料;/n(7)在高折射率材料的结构上涂敷聚合物形成保护层;所述步骤(1)中根据光栅衍射理论或导模共振效应设计反射式滤波器,得到红光650nm,绿光540nm,蓝光470nm三基色的滤波器,即单色点,通过对三个单色点不同比例组合形成真彩色像素点,实现光栅结构与CIE色域的一一对应,通过光栅周期和方位角控制特定观察角度下的衍射效率,从而实现三色的有机组合;反射光主要是零级衍射光由导模共振效应实现。/n
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