[发明专利]一种新型阻变随机存储器及其制造方法有效
申请号: | 201410687628.3 | 申请日: | 2015-01-23 |
公开(公告)号: | CN104538548B | 公开(公告)日: | 2017-07-11 |
发明(设计)人: | 侯涛;汤震;唐慧刚;郭艳红;孔德武;刘金魁 | 申请(专利权)人: | 焦作大学;黄淮学院;河南农业职业学院;河南工业和信息化职业学院 |
主分类号: | H01L45/00 | 分类号: | H01L45/00 |
代理公司: | 郑州红元帅专利代理事务所(普通合伙)41117 | 代理人: | 季发军 |
地址: | 454003 河南省*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | 本发明提供一种基于石墨烯氧化物的阻变随机存储器的制造方法。该阻变随机存储器包括栅极、栅绝缘层、源极、漏极、有源区、位于有源区和源极及漏极之间的石墨烯层以及存储单元。存储单元包括上电极、下电极以及上下电极之间的阻变层,其中阻变层为石墨烯氧化物。其中石墨烯氧化物层为石墨烯层经过氧化工艺形成。该氧化工艺可为远程等离子体氧化工艺。石墨烯层的使用,提高了器件的电稳定性以及可靠性。同时采用该方法,降低了工艺难度,提高了生产效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 新型 随机 存储器 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种阻变随机存储器的制造方法,包括:提供具有绝缘表面的衬底;在衬底上形成栅电极;形成覆盖栅电极的栅氧化层;在栅氧化层上形成图案化的源极和漏极;形成石墨烯图案,其覆盖源极和漏极;形成掩膜图案,其覆盖源极、部分漏极以及源极和漏极之间的部分,且暴露出漏极上的部分石墨烯图案;对暴露的位于漏极上的石墨烯层进行氧化工艺,在漏极的暴露部分形成石墨烯氧化物层;去除掩膜图案;形成有源层,且覆盖源极和部分漏极上的石墨烯图案,而暴露部分漏极上的石墨烯氧化物图案;在衬底上形成覆盖源极、漏极、有源层以及石墨烯氧化物层的层间绝缘层;在层间绝缘层上形成通孔,其暴露石墨烯氧化物层;在通孔中、暴露石墨烯氧化物层表面形成上电极;填充剩余的通孔。
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