[发明专利]一种气相沉淀设备用喷淋头清洁装置无效
申请号: | 201410687729.0 | 申请日: | 2014-11-25 |
公开(公告)号: | CN104328387A | 公开(公告)日: | 2015-02-04 |
发明(设计)人: | 陈伟;陈立人 | 申请(专利权)人: | 聚灿光电科技(苏州)有限公司 |
主分类号: | C23C16/00 | 分类号: | C23C16/00;B08B1/04 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 常亮 |
地址: | 215123 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种气相沉淀设备用喷淋头清洁装置,包括可拆卸地设置于旋转托盘上的清洁部件,且清洁部件的旋转半径大于或等于喷淋头半径;通过将清洁部件固定于设备的旋转托盘上,在每生长一炉后通过驱动旋转托盘上移并转动,实现对喷淋头的自动清洁,节省人力,刷洗均匀。所以旋转托盘的动力源自设备的本身,有很好的适应性与重现性。在设定好清洁部件相对喷淋头的固定的距离,固定的转速后,每次清洁力度、转速相同,确保每次清洁程度一致,从而保证工艺的稳定性。此外,刷毛采用高低间隔排列,而且通过调整清洁部件高度,使得刷毛可穿入喷淋头小孔内清洁,可以有效实现对喷淋头表面及孔隙的清洁。 | ||
搜索关键词: | 一种 沉淀 备用 喷淋 清洁 装置 | ||
【主权项】:
一种气相沉淀设备用喷淋头清洁装置,用于清洗喷淋头表面的覆盖层,所述气相沉淀设备包括加热系统、反应室,设置于所述反应室内的旋转托盘,向所述反应室内输送气态原材料的喷淋头,其特征在于,所述清洁装置包括可拆卸地设置于所述旋转托盘上的清洁部件,所述清洁部件随旋转托盘同步转动,且清洁部件的旋转半径大于或等于所述喷淋头的半径;所述清洁装置还包括驱动旋转托盘运转的转动机构,以及驱动旋转托盘上下移动使得清洁部件与喷淋头表面接触的升降机构,清洁时,升降机构带动旋转托盘上移与喷淋头接触,后驱动旋转托盘带动清洁部件清洁喷淋头。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的