[发明专利]双折射消偏振薄膜在审
| 申请号： | 201410697324.5 | 申请日： | 2014-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN104407410A | 公开（公告）日： | 2015-03-11 |
| 发明（设计）人： | 侯永强;阎江 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30 |
| 代理公司： | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人： | 吴俊 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种双折射消偏振薄膜，由于使用了倾斜沉积的各向异性高反射膜系，其利用了在不同沉积角度下薄膜的双折射特性，通过对高低折射率膜层折射率的组合，在45°倾斜入射条件下实现了TE和TM两种偏振态光波在中心工作波长范围内的消偏振，且该双折射消偏振薄膜的光学性能可由沉积薄膜材料以及薄膜沉积过程中倾斜角度的选择来调控，因而具有很高的设计灵活性和系统集成度。 | ||
| 搜索关键词： | 双折射 偏振 薄膜 | ||
【主权项】：
一种双折射消偏振薄膜，应用于45°倾斜的入射光环境中，其特征在于，包括：一基底和位于所述基底上的各向异性双折射膜系；所述各向异性双折射膜系包括交替叠置的高折射率膜层和低折射率膜层，且该各向异性双折射膜系的最外层为高折射率膜层；其中，每层所述高折射率膜层和所述低折射率膜层均为各向异性的膜层，且每层所述高折射率膜层和所述低折射率膜层的光学厚度均为所述入射光的波长的四分之一。
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