[发明专利]阵列基板及其制造方法，以及显示装置有效
| 申请号： | 201410697709.1 | 申请日： | 2014-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN104360557A | 公开（公告）日： | 2015-02-18 |
| 发明（设计）人： | 舒适;张锋;谷耀辉;贺芳;谷丰 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;G02F1/1333;G02F1/1339 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 彭久云;王晓燕 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明的实施例提供阵列基板及其制造方法，以及显示装置。该阵列基板的制造方法，包括：形成薄膜晶体管；形成覆盖所述薄膜晶体管的钝化层，该钝化层具有过孔并且该过孔露出所述薄膜晶体管的漏极的至少一部分；形成过孔导电层，该过孔导电层覆盖所述漏极于所述过孔处露出的部分并连接所述漏极；对所述过孔导电层进行处理，以使所述过孔导电层的反射率低于所述漏极的反射率；以及形成像素电极，该像素电极通过所述过孔导电层连接所述漏极。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 及其 制造 方法 以及 显示装置 | ||
【主权项】：
一种阵列基板的制造方法，包括：形成薄膜晶体管；形成覆盖所述薄膜晶体管的钝化层，该钝化层具有过孔并且该过孔露出所述薄膜晶体管的漏极的至少一部分；形成过孔导电层，该过孔导电层覆盖所述漏极于所述过孔处露出的部分并连接所述漏极；对所述过孔导电层进行处理，以使所述过孔导电层的反射率低于所述漏极的反射率；以及形成像素电极，该像素电极通过所述过孔导电层连接所述漏极。
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