[发明专利]套准标记及其形成方法

摘要

本发明提供一种套准标记及其形成方法，套准标记的形成方法包括：提供衬底，在衬底的标记区中形成多个条形浅沟槽隔离结构，多个条形浅沟槽隔离结构之间的衬底用于组成第一光栅，在衬底的标记区上形成多个栅条，栅条位于相邻两个条形浅沟槽隔离结构之间的衬底上方，在多个栅条之间形成间隔层，多个栅条组成第二光栅。第一光栅在衬底平面上的位置和形状与第二光栅的位置相同、形状相似，光通过第二光栅和第一光栅之后，形成第一衍射波形和第二衍射波形能够发生干涉形成干涉光，干涉光的振幅更大，光强更强，使光学检测设备容易探测到干涉光的波形，并更准确获得反应第二光栅位置的信息，对套准标记测试得到第二光栅位置结果更加精确。

主权项

1.一种套准标记的形成方法，其特征在于，包括：提供衬底，所述衬底包括标记区；在所述标记区的衬底中形成多个条形浅沟槽隔离结构，所述多个条形浅沟槽隔离结构之间的衬底用于组成第一光栅，所述多个条形浅沟槽隔离结构作为第一光栅的狭缝；在所述标记区的衬底上形成多个栅条，所述栅条位于相邻两个条形浅沟槽隔离结构之间的衬底上方，在所述多个栅条之间形成间隔层，所述间隔层位于条形浅沟槽隔离结构上方，所述多个栅条组成第二光栅，所述多个栅条之间的间隔层作为第二光栅的狭缝。