[发明专利]进气装置及半导体加工设备

摘要

本发明提供一种进气装置及半导体加工设备。该进气装置用于向反应腔室内输送工艺气体，进气装置包括装置本体和一个或多个进气管，装置本体内设置有未贯穿其下表面的主进气通道，主进气通道与工艺气源相连通；每个进气管的进气端贯穿装置本体的侧壁与主进气通道相连通，每个进气管朝向装置本体侧壁外侧延伸，且其出气端远离装置本体，以使工艺气源提供的工艺气体自主进气通道和进气管输送至反应腔室内。本发明提供的进气装置和半导体加工设备，其可以解决反应腔室内气体分布不均匀的问题，从而可以提高衬底的工艺均匀性和工艺质量。

主权项

1.一种进气装置，用于向反应腔室内输送工艺气体，其特征在于，所述进气装置包括装置本体和一个或多个进气管，所述装置本体内设置有未贯穿其下表面的主进气通道，所述主进气通道与工艺气源相连通；每个所述进气管的进气端贯穿所述装置本体的侧壁与所述主进气通道相连通，每个所述进气管朝向所述装置本体侧壁外侧延伸，且每个所述进气管的出气端远离所述装置本体，所述工艺气源提供的工艺气体自所述主进气通道和所述进气管输送至反应腔室内，以使所述反应腔室内的工艺气体趋于均匀；所述进气管的出气端沿水平方向延伸。