[发明专利]一种常压化学气相沉积镀膜反应器有效
申请号: | 201410718690.4 | 申请日: | 2014-12-02 |
公开(公告)号: | CN104451601A | 公开(公告)日: | 2015-03-25 |
发明(设计)人: | 刘涌;韩高荣;宋晨路;汪建勋;刘新;沈鸽 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
主分类号: | C23C16/453 | 分类号: | C23C16/453;C23C16/455 |
代理公司: | 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 | 代理人: | 胡红娟 |
地址: | 310027 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种常压化学气相沉积镀膜反应器。该镀膜反应器特点为:反应器内部设计有强化对流和束流结构的混气室;反应器底部结构采用具有良好热导率的耐高温钢板;混气室出口采用狭缝结构,作为反应器镀膜气体喷嘴;反应器喷嘴处安装具有倒角结构的石墨挡块;反应器进气腔与排气腔采用完全对称结构;反应器镀膜进气与排气方向可以互换。该常压化学气相沉积镀膜反应器通过强化前驱体气体对流传热,提高反应热效率,能够使镀膜沉积反应在相对较低的温度下进行,降低镀膜能耗,拓宽镀膜温度窗口。本发明的设计思路新颖,设备维护简单,投资小,成本低,适合工业化或实验室设备应用。 | ||
搜索关键词: | 一种 常压 化学 沉积 镀膜 反应器 | ||
【主权项】:
一种常压化学气相沉积镀膜反应器,包括内部设有混气室的反应器主体,其特征在于,所述的混气室平铺在沉积基底或玻璃带上方,混气室底部设有导热板,所述导热板上设有作为反应器镀膜喷嘴的狭缝;与混气室连通的进气管和狭缝分别位于混气室的两对侧,所述的混气室为沿气流方向逐渐扩宽的广口状,混气室内还装有混流挡板,所述的混流挡板间具有迂回的气流通道。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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