[发明专利]一种制备量子点自组装膜的方法

摘要

本发明提供了利用Ni‑NTA作用来制备量子点自组装膜的方法，该方法包括：在蒸镀金属层基底表面修饰羧基；在水溶性量子点表面修饰氮川三乙酸和二价镍离子；以及表面修饰羧基的蒸镀金属层基底浸在上述修饰氮川三乙酸和二价镍离子的量子点溶液中，真空条件下，使量子点组装在蒸镀金属层基底上。本发明还提供了包含蒸镀金属层基底以及通过上述方法制备的自组装膜的材料。本发明还提供所述自组装膜在光电材料、生物材料等领域的应用。本发明的制备方法操作简单、节省时间、可控性好，制备的量子点纳米颗粒自组装膜成膜性好、性质稳定，在光电材料，生物材料等领域都有广泛的应用。

主权项

1.一种制备量子点自组装膜的方法，所述方法包括如下步骤：(1)制备表面修饰羧基的蒸镀金属层基底：将蒸镀金属层基底浸没在浓度为5mM‑10mM的长链羧酸中16‑24h，得到表面修饰羧基的蒸镀金属层基底；(2)制备表面修饰NTA与Ni2+的量子点：在量子点中分别加入EDC水溶液和NHS水溶液以活化量子点表面羧基基团，然后再加入NTA水溶液进行反应，反应后加入二价镍盐溶液，离心分离，得到表面修饰NTA和Ni2+的量子点；其中，所述EDC水溶液的浓度为1mM到1M；所述NHS水溶液的浓度为1mM到1M；所述NTA水溶液的浓度为1mM到1M；所述二价镍盐溶液的浓度为1mM到1M；(3)制备量子点自组装膜：将步骤(1)制备的表面修饰羧基的蒸镀金属层基底浸没在步骤(2)制备的表面修饰NTA与Ni2+的量子点溶液中，在室温及真空下孵化4‑6h，得到蒸镀金属层基底表面的量子点自组装膜。