[发明专利]双薄膜晶体管及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201410733657.9 申请日: 2014-12-04
公开(公告)号: CN105720056A 公开(公告)日: 2016-06-29
发明(设计)人: 姜信铨;吕雅茹;陈玉仙;黄彦馀 申请(专利权)人: 中华映管股份有限公司
主分类号: H01L27/088 分类号: H01L27/088;H01L21/8234
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 王玉双;尚群
地址: 中国台湾*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种双薄膜电晶体管及其制造方法,该双薄膜晶体管包含第一半导体层、栅极、第二半导体层、第一绝缘层、第二绝缘层、第一源极、第一漏极、第二源极及第二漏极。第一半导体层设置于基材上。栅极设置于第一半导体层上。第二半导体层设置于栅极上,第一半导体层及第二半导体层为同一导电型。第一绝缘层设置于第一半导体层与栅极之间。第二绝缘层设置于栅极与第二半导体层之间。第一源极及第一漏极设置于基材与第二绝缘层之间,第一半导体层接触第一源极的一部分及第一漏极的一部分。第二源极及第二漏极设置于第二绝缘层上,第二半导体层接触第二源极的一部分及第二漏极的一部分。本发明还公开了该双薄膜电晶体管的制造方法。
搜索关键词: 薄膜晶体管 及其 制造 方法
【主权项】:
一种双薄膜晶体管,其特征在于,包含:一第一半导体层,设置于一基材上;一栅极,设置于该第一半导体层上;一第二半导体层,设置于该栅极上,其中该第一半导体层及该第二半导体层为同一导电型;一第一绝缘层,设置于该第一半导体层与该栅极之间;一第二绝缘层,设置于该栅极与该第二半导体层之间;一第一源极及一第一漏极,设置于该基材与该第二绝缘层之间,且该第一半导体层接触该第一源极的一部分及该第一漏极的一部分;以及一第二源极及一第二漏极,设置于该第二绝缘层上,且该第二半导体层接触该第二源极的一部分及该第二漏极的一部分。
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