[发明专利]一种ITO膜磁控溅射磁悬浮车靶均匀加热装置及其方法有效

专利信息
申请号: 201410736207.5 申请日: 2014-11-29
公开(公告)号: CN104372302B 公开(公告)日: 2017-08-22
发明(设计)人: 谭华;秦遵红;王恋贵;董安光 申请(专利权)人: 洛阳康耀电子有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/08
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 471000 河南省洛*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 一种ITO膜磁控溅射磁悬浮车靶均匀加热装置及其方法,确保在大型连续性生产氧化铟锡膜中,通过控制对磁控溅射磁悬浮车靶的各部位的加热温度,使ITO薄膜得到整版均匀性良好的电阻,电阻率达到2×10‑4Ω/cm、透过率达到90%以上;明显提高ITO薄膜的产品质量,大大提高工作效率,节约生产成本,延长使用寿命2倍以上,确实节能环保。一种ITO膜磁控溅射磁悬浮车靶均匀加热装置,是由连续性真空磁控溅射镀膜设备室,真空室温控门,真空门加热器,真空门均温加热器,磁控溅射磁悬浮车靶装置,真空墙体上加热器,真空墙体中间加热器,真空墙体下加热器,真空室温控后墙体,钐钴磁铁装置构成。
搜索关键词: 一种 ito 磁控溅射 磁悬浮 均匀 加热 装置 及其 方法
【主权项】:
一种ITO膜磁控溅射磁悬浮车靶均匀加热装置,是由:连续性真空磁控溅射镀膜设备室(1),真空室温控门(2),真空门加热器(3),真空门均温加热器(3‑1),磁控溅射磁悬浮车靶装置(4),真空墙体上加热器(5),真空墙体中间加热器(6),真空墙体下加热器(7),真空室温控后墙体(8),钐钴磁铁装置(9)构成;其特征在于:连续性真空磁控溅射镀膜设备室(1)的一侧设置真空室温控门(2),另一侧设置真空室温控后墙体(8);真空室温控后墙体(8)与真空室温控门(2)之间对应设置磁控溅射磁悬浮车靶装置(4),磁控溅射磁悬浮车靶装置(4)上方对应设置钐钴磁铁装置(9);真空室温控门(2)一侧设置至少一列真空门加热器(3),每列真空门加热器(3)横向均布设置为至少三个;且每列真空门加热器(3)的两侧分别竖向设置至少一个真空门均温加热器(3‑1);真空室温控门(2)一侧设置两列真空门加热器(3),每列真空门加热器(3)横向均布设置为五个;且每列真空门加热器(3)的两侧分别竖向设置一个真空门均温加热器(3‑1);真空室温控后墙体(8)上部一侧设置至少一个真空墙体上加热器(5),真空室温控后墙体(8)下部一侧设置至少一个真空墙体下加热器(7);真空墙体下加热器(7)与真空墙体上加热器(5)之间设置至少一个真空墙体中间加热器(6)。
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