[发明专利]粒子层的涂布方法、及磁记录介质的制造方法在审
| 申请号： | 201410738831.9 | 申请日： | 2014-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN105321537A | 公开（公告）日： | 2016-02-10 |
| 发明（设计）人： | 渡部彰;木村香里;鬼冢刚 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | G11B5/851 | 分类号： | G11B5/851 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 段承恩;李照明 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的实施方式提供一种粒子层的涂布方法，所述方法可以得到间距分散良好的粒子排列。根据实施方式，得到一种粒子层的涂布方法，所述方法包括以下工序：使粒子分散于溶剂中从而制作成粒子涂布液，所述粒子在表面具有使用第一高分子材料形成的第一被覆层；以及在基板上涂布粒子涂布液从而形成单粒子层，所述基板具有使用与第一高分子材料具有相同骨架的第二高分子材料形成的第二被覆层。 | ||
| 搜索关键词： | 粒子 方法 记录 介质 制造 | ||
【主权项】：
一种粒子层的涂布方法，包括：使粒子分散于溶剂中从而制作粒子涂布液的工序，所述粒子在表面具有使用第一高分子材料形成的第一被覆层；和在基板上涂布粒子涂布液从而形成单粒子层的工序，所述基板具有使用与所述第一高分子材料具有相同骨架的第二高分子材料形成的第二被覆层。
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