[发明专利]一种基于高阻硅衬底的LDMOS MMIC芯片在审

专利信息
申请号: 201410738869.6 申请日: 2014-12-08
公开(公告)号: CN104392993A 公开(公告)日: 2015-03-04
发明(设计)人: 陈强;多新中;张复才;沈美根;任春岭 申请(专利权)人: 江苏博普电子科技有限责任公司
主分类号: H01L27/04 分类号: H01L27/04
代理公司: 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 代理人: 董建林
地址: 214131 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种基于高阻硅衬底的LDMOSMMIC芯片,所述芯片上集成有LDMOS晶体管、电感、电容、电阻、金属连线与图形和焊盘,其特征是,所述芯片采用无外延层的P型高阻硅衬底;所述芯片正面的LDMOS源极和芯片背面的金属层通过硅衬底通孔技术连接。本发明所达到的有益效果:采用高阻硅衬底,以及硅衬底通孔技术将芯片正面的LDMOS源极与芯片背面的金属层连接。高阻硅衬底使得片上电感、电容、电阻、金属连线与图形和焊盘等的对地寄生电容和损耗降低,LDMOSMMIC的性能得到提高,从而可以减少金属互联的层数,降低成本。同时本技术能降低LDMOS晶体管N型漏极和漂移区与P型衬底之间的PN结电容,使得LDMOS晶体管的输出电容降低,增加了LDMOS器件的带宽与功率转换效率。
搜索关键词: 一种 基于 高阻硅 衬底 ldmos mmic 芯片
【主权项】:
一种基于高阻硅衬底的LDMOS MMIC芯片,所述芯片上集成有LDMOS晶体管、电感、电容、电阻、金属连线与图形和焊盘,其特征是,所述芯片正面的LDMOS源极和芯片背面之间设置有衬底;所述衬底采用无外延层的P型高阻硅衬底;所述芯片正面的LDMOS源极和芯片背面的金属层通过硅通孔技术连接。
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