[发明专利]用于柔性基底的非同构层的沉积在审

专利信息
申请号: 201410743709.0 申请日: 2014-12-08
公开(公告)号: CN104726849A 公开(公告)日: 2015-06-24
发明(设计)人: 李相忍;黄敞玩 申请(专利权)人: 威科ALD有限公司
主分类号: C23C16/44 分类号: C23C16/44
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 蔡胜有;刘媛
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明提供了一种用于在基底上沉积多个非同构层的方法以及通过该方法制造的产品。在基底上沉积多个非同构层。通过将金属原子吸附到基底来在基底上沉积无机层。将基底上的无机层暴露于含烃源前体以通过将含烃源前体吸附到无机层上来沉积第一含烃层。将基底上的第一含烃层暴露于反应物前体以增加基底上的第一含烃层的反应性,并且在基底上的第一含烃层上沉积第二含烃层。该过程可以重复以沉积多个层。第二含烃层可以具有较高烃含量,并且与第一含烃层相比可以以较高沉积速率沉积第二含烃层。
搜索关键词: 用于 柔性 基底 同构 沉积
【主权项】:
一种用于在基底上沉积多个非同构层的方法,所述方法包括:(a)在所述基底上沉积无机层,所述无机层包括吸附到所述基底的金属原子;(b)将所述基底上的所述无机层暴露于含烃源前体以通过将所述含烃源前体吸附到所述无机层上来沉积第一含烃层;以及(c)重复(a)和(b)以在所述基底上形成无机层和第一含烃层的多个层。
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