[发明专利]均匀旋涂用托盘在审
| 申请号： | 201410760850.1 | 申请日： | 2014-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN105752444A | 公开（公告）日： | 2016-07-13 |
| 发明（设计）人： | 张志勇;赵青山;赵少华;赵炜 | 申请（专利权）人： | 西安宝莱特光电科技有限公司 |
| 主分类号： | B65D19/26 | 分类号： | B65D19/26;B65D19/38 |
| 代理公司： | 西安新思维专利商标事务所有限公司 61114 | 代理人： | 李罡 |
| 地址： | 710075 陕*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种托盘，具体涉及一种均匀旋涂用托盘，内放置基片，主要包括圆盘本体，该圆盘本体中心向下形成一凹槽，该凹槽底部与所述圆盘本体之间的距离等于基片的厚度。本发明通过设置凹槽，基片放置于凹槽内时，基片表面与托盘表面保持平齐，避免旋转过程中基片棱角产生气流，克服气流对旋涂液的影响，有助于涂液的均匀扩散。 | ||
| 搜索关键词： | 均匀 旋涂用 托盘 | ||
【主权项】：
一种均匀旋涂用托盘，内放置基片，其特征在于：主要包括圆盘本体，该圆盘本体中心向下形成一凹槽，该凹槽底部与所述圆盘本体之间的距离等于基片的厚度。
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