[发明专利]具有复合区的半导体器件有效

专利信息
申请号: 201410764738.5 申请日: 2014-12-11
公开(公告)号: CN104716169B 公开(公告)日: 2018-10-19
发明(设计)人: J·G·拉文;R·巴布斯克;P·坎沙特 申请(专利权)人: 英飞凌科技股份有限公司
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L29/40;H01L29/861;H01L29/739;H01L29/78
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 郑立柱
地址: 德国诺伊*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 一种半导体器件包括在半导体主体中的漂移区。电荷载流子转移区与该半导体主体中的漂移区形成pn结。控制结构在去饱和周期期间将复合区电连接至漂移区,并且在去饱和期间以外使复合区与漂移区断开连接。在去饱和周期期间复合区减少在漂移区中的电荷载流子等离子,并且减少反向恢复损耗,从而不产生不利的阻断特性。
搜索关键词: 具有 复合 半导体器件
【主权项】:
1.一种半导体器件,包括漂移区,其位于半导体主体中;电荷载流子转移区,其与所述半导体主体中的所述漂移区形成pn结;复合区;以及控制结构,其被配置为在去饱和周期期间将所述复合区电连接至所述漂移区,并且在所述去饱和周期之外使所述复合区与所述漂移区断开连接。
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