[发明专利]一种利用原子层沉积钝化层抑制金属表面积碳的方法在审
申请号: | 201410771681.1 | 申请日: | 2014-12-13 |
公开(公告)号: | CN104498899A | 公开(公告)日: | 2015-04-08 |
发明(设计)人: | 冯昊;吕剑;龚婷;惠龙飞;秦利军;李春迎;杜咏梅;孙道安;张建伟 | 申请(专利权)人: | 西安近代化学研究所 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/30 |
代理公司: | 中国兵器工业集团公司专利中心 11011 | 代理人: | 梁勇 |
地址: | 710065 陕西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明公开了一种抑制金属表面积碳的方法。该方法消除了高温下由金属催化作用形成的积碳,延长流体系统的使用寿命。主要步骤是:(1)将待钝化的流体系统与原子层沉积系统气路进行连接;(2)对流体系统内壁进行惰性化合物原子层沉积,具体步骤为:向反应腔内注入第一种反应前驱体;清洗后注入第二种反应前驱体,再清洗;(3)循环执行上述操作,通过控制循环周期数获得所需厚度的钝化层。本发明自动化程度高,重复性好;过程温度较低,对基底不造成损伤;沉积过程薄膜厚度控制精确,不易造成流体通道阻塞,适用于对造价昂贵、结构复杂的流体系统进行钝化加工。 | ||
搜索关键词: | 一种 利用 原子 沉积 钝化 抑制 金属 表面积 方法 | ||
【主权项】:
一种利用原子层沉积钝化层抑制金属表面积碳的方法,其特征在于包括以下步骤:步骤一,将待钝化金属与原子层沉积系统气路连接,使气体直接流经待钝化金属表面;步骤二,向原子层沉积系统内通入惰性载气并抽真空,调节系统反应腔出口阀门使腔内压力处于负压;并通过加热使反应腔温度处于特定范围内,特定范围取决于所沉积的材料种类;步骤三,向反应腔内注入含Al、Ti、Si元素的第一种反应前驱体,时间为t1;通入惰性载气冲洗过量的反应前驱体和副产物,时间为t2;向反应腔内注入第二种反应前驱体,时间为t3;再通入惰性载气冲洗未反应的第二种反应前驱体和副产物,时间为t4;步骤四,重复执行相应周期数的步骤三,直至在待钝化金属表面生成所需厚度的惰性钝化层。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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