[发明专利]一种柔性封装基板的微盲孔制作方法在审
申请号: | 201410775596.2 | 申请日: | 2014-12-17 |
公开(公告)号: | CN104752234A | 公开(公告)日: | 2015-07-01 |
发明(设计)人: | 刘燕 | 申请(专利权)人: | 安捷利电子科技(苏州)有限公司 |
主分类号: | H01L21/48 | 分类号: | H01L21/48 |
代理公司: | 广州市华创源专利事务所有限公司 44210 | 代理人: | 夏屏 |
地址: | 215000 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明一种柔性封装基板的微盲孔制作方法属于超薄FPC制作工艺,制作方法包括如下步骤:1、单面或多层板表面贴保护层;2、激光钻孔;3、等离子除胶;4、黑孔;5、线外微蚀;6、去除铜面保护层;7、填孔电镀;本发明降低面铜铜厚,在钻盲孔前对铜面进行保护,达到不被微蚀影响而形成微蚀环,出现与黑孔层断层的现象。 | ||
搜索关键词: | 一种 柔性 封装 微盲孔 制作方法 | ||
【主权项】:
一种柔性封装基板的微盲孔制作方法,其特征是:a.以市场上通用的双面或多面柔性电路板为基材;所述的双面或多面柔性电路板基材,中间的连接层可以是25或50um的聚酰亚胺层,聚酯层或聚萘二甲酸乙二醇酯层,所述的的连接层上覆盖有铜箔层,连接层通过粘结胶层覆在基材的上方;b.对步骤a中的基材表面铜箔进行减薄,减薄到4‑6um;该基材表面铜厚为9‑18um铜箔;c.对步骤b中的基材表面进行保护;d.将步骤c中的带保护层的铜面激光钻盲孔,该盲孔为40、50、60um的盲孔;e.用等离子清洗的方式粗化PI和去除激光钻孔内残渣;等离子除环氧胶胶速率为0.5um/min,等离子除聚酰亚胺速率为0.1um/min;f.采用黑孔的方式进行孔金属化;g.将步骤f中黑孔的半成品板过水平微蚀线,直到孔底与铜表面外观一致;该水平微蚀线微蚀速率为:1‑2um/min;h.采用氢氧化钠或者氢氧化钾溶液去除表面保护层,浓度为1‑3%;i.该处可选择增加闪镀,以保护碳粉层不易脱落,闪镀厚度控制在1‑2um;j.采用盲孔电镀药水进行盲孔填埋;k.对步骤j中半成品板可采用减成法或半加成法进行线路制作。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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