[发明专利]样品测量池在审

专利信息
申请号: 201410781960.6 申请日: 2014-12-17
公开(公告)号: CN105445195A 公开(公告)日: 2016-03-30
发明(设计)人: 邓文平 申请(专利权)人: 邓文平
主分类号: G01N21/03 分类号: G01N21/03
代理公司: 苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 代理人: 杨林洁
地址: 215123 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明揭示了一种样品测量池,样品测量池包括反射腔及至少一个反射结构,反射腔用于容置待测样品;反射结构设置于所述反射腔的边界;其中,反射结构包括至少一个接触样品的接触面和两个远离样品反射面,所述反射面为全反射面或非全反射面。本发明的样品接触面对样品具有化学惰性,同时设置反射面为远离待测样品的一面,待测样品、样品中的杂质不会破坏起反射作用的反射面,本发明具有环境适应能力强和长光程的优点。
搜索关键词: 样品 测量
【主权项】:
一种样品测量池,其特征在于,所述样品测量池包括:反射腔,用于容置待测样品;以及至少一个反射结构,所述至少一个反射结构设置于所述反射腔的边界;其中,所述反射结构包括两个反射面和至少一个接触面,所述接触面接触所述待测样品,所述反射面远离所述待测样品,所述反射面为全反射面或非全反射面,当所述反射面为全反射面时,入射光在所述反射腔内的多次反射的传播路径不在一个平面内;当所述反射面为非全反射面时,所述非全反射面上镀有反射膜。
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