[发明专利]样品测量池在审
申请号: | 201410781960.6 | 申请日: | 2014-12-17 |
公开(公告)号: | CN105445195A | 公开(公告)日: | 2016-03-30 |
发明(设计)人: | 邓文平 | 申请(专利权)人: | 邓文平 |
主分类号: | G01N21/03 | 分类号: | G01N21/03 |
代理公司: | 苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 | 代理人: | 杨林洁 |
地址: | 215123 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明揭示了一种样品测量池,样品测量池包括反射腔及至少一个反射结构,反射腔用于容置待测样品;反射结构设置于所述反射腔的边界;其中,反射结构包括至少一个接触样品的接触面和两个远离样品反射面,所述反射面为全反射面或非全反射面。本发明的样品接触面对样品具有化学惰性,同时设置反射面为远离待测样品的一面,待测样品、样品中的杂质不会破坏起反射作用的反射面,本发明具有环境适应能力强和长光程的优点。 | ||
搜索关键词: | 样品 测量 | ||
【主权项】:
一种样品测量池,其特征在于,所述样品测量池包括:反射腔,用于容置待测样品;以及至少一个反射结构,所述至少一个反射结构设置于所述反射腔的边界;其中,所述反射结构包括两个反射面和至少一个接触面,所述接触面接触所述待测样品,所述反射面远离所述待测样品,所述反射面为全反射面或非全反射面,当所述反射面为全反射面时,入射光在所述反射腔内的多次反射的传播路径不在一个平面内;当所述反射面为非全反射面时,所述非全反射面上镀有反射膜。
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