[发明专利]微波等离子体源和等离子体处理装置在审
申请号: | 201410784335.7 | 申请日: | 2014-12-16 |
公开(公告)号: | CN104717820A | 公开(公告)日: | 2015-06-17 |
发明(设计)人: | 小松智仁;池田太郎;藤野丰 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H05H1/46 | 分类号: | H05H1/46 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种微波等离子体源,其能够确保等离子体的扩散,并且即使减少微波辐射部的数量,也能够形成均匀的表面波等离子体。微波等离子体源(2)包括微波输出部(30)、微波供给部(40)和微波辐射板(50)。微波供给部(40)具有在微波辐射部件(50)的周缘部(50a)之上沿着圆周方向设置的多个微波导入机构(43),微波辐射板(50)包括:隙缝天线部(124),其具有沿着微波导入机构配置区域以整体形状呈圆周状的方式设置有多个的微波辐射用的隙缝(123);和在与微波导入机构配置区域对应的位置以覆盖隙缝(123)的方式设置成圆周状,用于透射从隙缝(123)辐射的微波的微波透射部件(122)。 | ||
搜索关键词: | 微波 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】:
一种微波等离子体源,其向等离子体处理装置的腔室内辐射微波而形成表面波等离子体,所述微波等离子体源的特征在于,包括:生成并输出微波的微波输出部;用于传送从所述微波输出部输出的微波的的微波供给部;和构成所述腔室的顶壁,用于将从所述微波供给部供给来的微波辐射到所述腔室内的微波辐射部件,所述微波供给部包括微波导入机构,该微波导入机构在所述微波辐射部件之上的与所述腔室内的周缘部分对应的位置沿圆周方向设置有多个,将微波导入到所述微波辐射部件,所述微波辐射部件包括:隙缝天线部,其具有沿着配置有所述微波导入机构的微波导入机构配置区域以整体形状呈圆周状的方式设置有多个的微波辐射用的隙缝;和微波透射部件,其在与所述微波导入机构配置区域对应的位置以覆盖所述隙缝的方式设置成圆周状,由使从所述隙缝辐射的微波透射的电介质构成。
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