[发明专利]阴影掩膜对准和管理系统

摘要

一种用于基板的薄膜处理的磁性处理组件，一种用于组装和拆卸阴影掩膜以覆盖工件的顶部以暴露于处理条件的系统和方法。所述组件可包括：磁性处理载体以及阴影掩膜，所述阴影掩膜设置于所述磁性处理载体上方并磁性耦合至所述磁性处理载体，以覆盖当暴露于处理条件时将被设置在所述阴影掩膜和所述磁性处理载体之间的工件。一种系统包括：第一腔室，所述第一腔室具有保持所述阴影掩膜的第一支架；保持处理载体的第二支架；以及对准阴影掩膜和将被设置在载体和所述阴影掩膜之间的工件的对准系统。所述第一支架和所述第二支架可相对于彼此移动。

主权项

一种处理阴影掩膜以覆盖工件的顶部以暴露于处理条件的方法，所述方法包括：将处理载体设置到第一支架上；将阴影掩膜设置到第二支架上；利用计算机控制的多轴平台，通过基于计算机化的图案识别系统来相对于所述第二支架移动所述第一支架第一距离，从而将所述阴影掩膜的第一图案特征对准工件的第二图案特征；以及通过相对于所述第二支架移动所述第一支架第二距离以将所述对准的阴影掩膜的底表面带入到所述处理载体的磁场中，从而使所述对准的阴影掩膜与所述处理载体耦合。