[发明专利]一种BGA基板的制作方法有效
申请号: | 201410809327.3 | 申请日: | 2014-12-23 |
公开(公告)号: | CN104409365B | 公开(公告)日: | 2018-07-17 |
发明(设计)人: | 李红雷 | 申请(专利权)人: | 通富微电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/48 | 分类号: | H01L21/48;H01L21/77 |
代理公司: | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 何青瓦 |
地址: | 226004 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种BGA基板的制作方法,包括以下步骤:取一载板;将铜箔与载板压合;在铜箔上涂光感材料;曝光显影去除掉需要露出铜箔部分的光感材料;电镀底层金属;去除所有感光材料;在铜箔上刷玻璃纤维;在玻璃纤维上钻通孔;在通孔内镀铜;基板表面电路区电镀金属。非限制性地,所述底层金属为铜。本发明能带来以下有益效果:增强了底层金属与玻璃纤维的结合力,避免了底层金属与玻璃纤维材料结合不够紧密导致焊盘剥离焊球掉落,保证了产品的可靠性,提高了产品的良率。本发明可用于单层基板制作及多层基板制作。 | ||
搜索关键词: | 底层金属 铜箔 玻璃纤维 光感材料 制作 载板 感光材料 玻璃纤维材料 单层基板 电镀金属 多层基板 基板表面 曝光显影 电镀 电路区 结合力 钻通孔 掉落 除掉 镀铜 焊球 可用 良率 上刷 通孔 压合 去除 保证 | ||
【主权项】:
1.一种BGA基板的制作方法,包括以下步骤:在铜箔(2)上涂感光材料(3);将所述感光材料(3)去除一部分;在所述感光材料(3)去除的部分通过两次电镀形成底层金属(4),其中,在第一阶段电镀中,控制第一阶段电镀的电流、电流密度和电镀表面积不变;在第二阶段电镀中,先控制电镀的电流不变、增大电镀表面积,以使电流密度变小,当电流密度达到下限时将电流调大,使电流密度变大直至达到上限,再控制电流不变、增大电镀表面积使电流密度减小至下限,多次循环调整电流和电镀表面积,进而使所述底层金属(4)为顶部大底部小的蘑菇形;将所述感光材料(3)去除,以使得铜箔(2)上只留有底层金属(4);在去除感光材料后的铜箔(2)上刷玻璃纤维(5),所述玻璃纤维(5)覆盖所述底层金属(4);在所述玻璃纤维(5)上钻通孔(6),通孔(6)的位置与底层金属(4)的位置一一对应,深度至露出底层金属(4)。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造