[发明专利]半导体器件有效
申请号: | 201410812116.5 | 申请日: | 2014-12-22 |
公开(公告)号: | CN105789368B | 公开(公告)日: | 2017-07-21 |
发明(设计)人: | 殷华湘;贾云丛;袁烽;陈大鹏 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | H01L31/115 | 分类号: | H01L31/115;H01L31/02 |
代理公司: | 北京蓝智辉煌知识产权代理事务所(普通合伙)11345 | 代理人: | 陈红 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供了一种半导体X线探测器及其制造方法,将PIN接触层过孔之于像素单元的侧边,可以减少铟柱(包括UBM粘附层)封装工艺对PIN二极管器件电学特性的影响,避免金属钉刺现象,减少漏电流;同时,侧边接触结构可以降低PIN接触层过孔对后继的铟柱成球工艺的不利影响;另外,侧边接触减小了金属接触面积,从而降低了金属漏电。 | ||
搜索关键词: | 半导体器件 | ||
【主权项】:
一种半导体器件,包括半导体X线探测器的像素单元,其特征在于包括:硅基二极管阵列基板和读出电路阵列基板,其通过铟焊料球键合连接;所述读出电路阵列基板上形成有读出电路,第一钝化层以及第一UBM;所述硅基二极管阵列基板上形成有背面N+接触层,正面P+层,其中,所述背面N+接触层与所述正面P+层之间的所述硅基二极管阵列基板部分为本征层,从而形成了硅基PIN二极管;硅基二极管阵列基板的正面P+层之上还形成有氧化层,PIN接触层,第二钝化层以及第二UBM;其中,所述第二UNM包括与所述PIN接触层直接接触的位于所述第二钝化层之中的铟过孔;所述PIN接触层包括上下两部分:与所述铟过孔直接接触的PIN接触层基座以及与所述正面P+层直接接触的PIN接触层过孔;所述PIN接触层过孔位于所述像素单元的侧边,其与所述铟过孔不位于同一区域,并无交叠。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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