[发明专利]半导体器件有效

专利信息
申请号: 201410812116.5 申请日: 2014-12-22
公开(公告)号: CN105789368B 公开(公告)日: 2017-07-21
发明(设计)人: 殷华湘;贾云丛;袁烽;陈大鹏 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: H01L31/115 分类号: H01L31/115;H01L31/02
代理公司: 北京蓝智辉煌知识产权代理事务所(普通合伙)11345 代理人: 陈红
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种半导体X线探测器及其制造方法,将PIN接触层过孔之于像素单元的侧边,可以减少铟柱(包括UBM粘附层)封装工艺对PIN二极管器件电学特性的影响,避免金属钉刺现象,减少漏电流;同时,侧边接触结构可以降低PIN接触层过孔对后继的铟柱成球工艺的不利影响;另外,侧边接触减小了金属接触面积,从而降低了金属漏电。
搜索关键词: 半导体器件
【主权项】:
一种半导体器件,包括半导体X线探测器的像素单元,其特征在于包括:硅基二极管阵列基板和读出电路阵列基板,其通过铟焊料球键合连接;所述读出电路阵列基板上形成有读出电路,第一钝化层以及第一UBM;所述硅基二极管阵列基板上形成有背面N+接触层,正面P+层,其中,所述背面N+接触层与所述正面P+层之间的所述硅基二极管阵列基板部分为本征层,从而形成了硅基PIN二极管;硅基二极管阵列基板的正面P+层之上还形成有氧化层,PIN接触层,第二钝化层以及第二UBM;其中,所述第二UNM包括与所述PIN接触层直接接触的位于所述第二钝化层之中的铟过孔;所述PIN接触层包括上下两部分:与所述铟过孔直接接触的PIN接触层基座以及与所述正面P+层直接接触的PIN接触层过孔;所述PIN接触层过孔位于所述像素单元的侧边,其与所述铟过孔不位于同一区域,并无交叠。
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