[发明专利]一种金属离子印迹复合膜的制备方法有效
| 申请号： | 201410812167.8 | 申请日： | 2014-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN105771701B | 公开（公告）日： | 2018-08-17 |
| 发明（设计）人： | 杨丽;魏昕;杨永强 | 申请（专利权）人： | 中国石油化工股份有限公司;中国石油化工股份有限公司北京化工研究院 |
| 主分类号： | B01D71/68 | 分类号： | B01D71/68;B01D71/34;B01D71/26;B01D69/12;B01D67/00;C02F1/44 |
| 代理公司： | 北京卫平智业专利代理事务所(普通合伙) 11392 | 代理人： | 符彦慈;董琪 |
| 地址： | 100728 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种金属离子印迹复合膜的制备方法，以市售的商品微孔滤膜为基膜，以重金属离子为模板离子，利用紫外光引发功能单体和交联剂在基膜表面聚合进行离子印迹修饰，制备得到金属离子印迹复合膜。本发明所述的金属离子印迹复合膜的制备方法，通过紫外光引发表面聚合，对聚合物多孔膜进行修饰，在聚合物多孔膜的表面引入识别位点，实现对聚合物多孔膜表面进行离子印迹，制备工艺简单，易于操作，反应条件温和。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 金属 离子 印迹 复合 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种金属离子印迹复合膜的制备方法，其特征在于：以市售的商品微孔滤膜为基膜，以重金属离子为模板离子，利用紫外光引发功能单体和交联剂在基膜表面聚合进行离子印迹修饰，制备得到金属离子印迹复合膜；所述金属离子印迹复合膜的制备方法，具体包括以下步骤：步骤1，将基膜浸入含有光引发剂的乙醇、甲醇、正己烷或正庚烷溶液中，一段时间后取出自然晾干，晾干后的基膜在N2气氛中通过波长为365nm的紫外线照射0.5～3min，获得膜表面覆盖有光引发剂的基膜；步骤2，以重金属离子为模板离子，向含有模板离子的金属盐中加入功能单体、交联剂混合均匀，得到反应溶液，所述含有模板离子的金属盐、功能单体、交联剂按摩尔比为1:(1～8)：(2～50)的比值分别称取，将反应溶液与含有光引发剂的乙醇、甲醇、正己烷或正庚烷溶液混合均匀制成均相溶液体系，然后对均相溶液体系进行超声脱气处理，将膜表面覆盖有光引发剂的基膜浸入均相溶液体系中，置于波长为365nm的紫外光下照射4～10小时，得到金属离子印迹复合膜。
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