[发明专利]一种不规则晶圆的减薄方法有效
申请号: | 201410812372.4 | 申请日: | 2014-12-23 |
公开(公告)号: | CN104505337A | 公开(公告)日: | 2015-04-08 |
发明(设计)人: | 张国华;李云海 | 申请(专利权)人: | 无锡中微高科电子有限公司 |
主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02 |
代理公司: | 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙)32104 | 代理人: | 殷红梅 |
地址: | 江苏省无锡市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明提供一种不规则晶圆的减薄方法,包括下述步骤:步骤一,设定减薄设备减薄目标厚度;步骤二,测量并记录需要减薄的不规则晶圆的外形尺寸;步骤三,提供一片外形完整的陪片,陪片外缘尺寸与减薄设备的工作台盘的环形真空带相吻合;在陪片上确定需要切割的具体尺寸,并对所需切割的尺寸进行标记;步骤四,对步骤三中已作标记的陪片沿标记位置进行切割;步骤五,将步骤四中已切割陪片的中间部分取走,使其中间部位形成一个空缺区域;步骤六,将需减薄的不规则晶圆放置于步骤五中陪片形成的空缺区域,然后使用减薄膜粘贴在不规则晶圆和陪片正面,使得两者成为一个整体。本发明使原本只能报废的不规则晶圆可以继续被使用,可较大程度地节约成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 不规则 方法 | ||
【主权项】:
一种不规则晶圆的减薄方法,其特征在于,包括下述步骤:步骤一,设定减薄设备减薄目标厚度;步骤二,测量并记录需要减薄的不规则晶圆的外形尺寸;步骤三,提供一片外形完整的陪片,陪片外缘尺寸与减薄设备的工作台盘的环形真空带相吻合;在陪片上确定需要切割的具体尺寸,并对所需切割的尺寸进行标记;陪片上需要切割的尺寸至少大于不规则晶圆的外形尺寸,便于不规则晶圆放入陪片切割后形成的空缺区域;步骤四,对步骤三中已作标记的陪片沿标记位置进行切割;步骤五,将步骤四中已切割陪片的中间部分取走,使其中间部位形成一个空缺区域;步骤六,将需减薄的不规则晶圆放置于步骤五中陪片形成的空缺区域,然后使用减薄膜粘贴在不规则晶圆和陪片正面,使得两者成为一个整体;步骤七,将步骤六形成的整体放置于减薄设备的工作台盘上并采用真空吸附的方式将其吸附住;步骤八,按所需减薄目标厚度对步骤七所述的已吸附在减薄设备工作台盘上的整体进行减薄。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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