[发明专利]一种非均匀分布源探测效率计算及模拟装置及方法在审
| 申请号： | 201410816665.X | 申请日： | 2014-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN104483693A | 公开（公告）日： | 2015-04-01 |
| 发明（设计）人： | 田自宁;欧阳晓平;李雪松;张忠兵;阮金陆;宋纪文;金鹏 | 申请（专利权）人： | 西北核技术研究所 |
| 主分类号： | G01T1/00 | 分类号： | G01T1/00 |
| 代理公司： | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人： | 王少文 |
| 地址： | 71002*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明提供一种非均匀分布源探测效率计算及模拟装置，包括探测器、点源、面源；所述点源在半径为R范围内不同位置处来模拟按一定概率密度函数分布的面源；所述面源的半径为R，面源模拟的厚度为H，面源放置在0～H范围内不同高度位置，来模拟按一定概率密度函数分布的体源；所述探测器位于面源、点源的正下方，用于实验模拟计算按一定概率密度函数分布的半径为R的面源和半径为R，厚度为H的体源的探测效率。本发明对非均匀分布放射源进行研究，对于按一定概率密度函数分布的面源和体源，建立了它们的概率分布函数和均匀分布面源和体源探测效率的计算关系。相对层析γ扫描技术，大大简化了测量过程。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 均匀分布 探测 效率 计算 模拟 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种非均匀分布源探测效率计算及模拟装置，其特征在于：包括探测器(1)、点源(2)、面源(3)；所述点源(2)在半径为R范围内不同位置处来模拟按一定概率密度函数分布的面源；所述面源(3)的半径为R，面源模拟的厚度为H，面源放置在0～H范围内不同高度位置，来模拟按一定概率密度函数分布的体源；所述探测器(1)位于面源(3)、点源(2)的正下方，用于实验模拟计算按一定概率密度函数分布的半径为R的面源和半径为R，厚度为H的体源的探测效率。
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