[发明专利]光学层叠体的制造方法在审
| 申请号： | 201410817419.6 | 申请日： | 2014-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN104730610A | 公开（公告）日： | 2015-06-24 |
| 发明（设计）人： | 山本佳史;山崎达也;后藤周作;池岛健太郎 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及光学层叠体的制造方法。提供外观优异的偏光膜的制造方法。本发明的实施方式的光学层叠体的制造方法包括以下工序：对具有树脂基材和形成于该树脂基材的单侧的聚乙烯醇系树脂层的层叠体进行拉伸和染色，从而在该树脂基材上制作偏光膜的工序；使前述层叠体浸渍于包含碘化物的清洗液进行清洗的第1清洗工序；仅清洗前述层叠体的树脂基材侧表面的第2清洗工序；以及对前述层叠体进行干燥的工序。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 层叠 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种制造方法，其为在树脂基材上层叠有偏光膜的光学层叠体的制造方法，所述制造方法包括以下工序：对具有树脂基材和形成于该树脂基材的单侧的聚乙烯醇系树脂层的层叠体进行拉伸和染色，从而在该树脂基材上制作偏光膜的工序；使所述层叠体浸渍于包含碘化物的清洗液进行清洗的第1清洗工序；仅清洗所述层叠体的树脂基材侧表面的第2清洗工序；以及对所述层叠体进行干燥的工序。
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