[发明专利]封装件结构及其形成方法有效

专利信息
申请号: 201410817657.7 申请日: 2014-12-24
公开(公告)号: CN105789062B 公开(公告)日: 2021-02-26
发明(设计)人: 余振华;叶德强;陈宪伟 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L21/56 分类号: H01L21/56;H01L23/31
代理公司: 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 代理人: 章社杲;李伟
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 本文讨论了封装件的形成方法和结构。在实施例中,方法包括形成背侧重分布结构,以及在形成背侧重分布结构之后,将第一集成电路管芯粘附至背侧重分布结构。该方法还包括用密封剂密封背侧重分布结构上的第一集成电路管芯,在密封剂上形成前侧重分布结构,以及将第二集成电路管芯电连接至第一集成电路管芯。第二集成电路管芯通过机械附接至前侧重分布结构的第一外部电连接件电连接至第一集成电路管芯。
搜索关键词: 封装 结构 及其 形成 方法
【主权项】:
一种方法,包括:形成背侧重分布结构;在形成所述背侧重分布结构之后,将第一集成电路管芯粘附至所述背侧重分布结构;用密封剂密封位于所述背侧重分布结构上的第一集成电路管芯;在所述密封剂上形成前侧重分布结构;以及将第二集成电路管芯电连接至所述第一集成电路管芯,所述第二集成电路管芯通过机械附接至所述前侧重分布结构的第一外部电连接件电连接至所述第一集成电路管芯。
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