[发明专利]一种反射电极及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 201410835451.7 申请日: 2014-12-26
公开(公告)号: CN104466025B 公开(公告)日: 2017-10-10
发明(设计)人: 刘嵩;王禹 申请(专利权)人: 北京维信诺科技有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/56
代理公司: 北京三聚阳光知识产权代理有限公司11250 代理人: 彭秀丽
地址: 100085 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明所述的一种反射电极,包括依次堆叠设置在衬底上的第一导电层、导电反射层和第二导电层,在制备的过程中先刻蚀形成第二导电层和导电反射层,再通过第二光刻胶层对第二导电层和导电反射层的保护作用,形成第一导电层的同时避免刻蚀液对第二导电层和导电反射层的影响。同时,所述反射电极采用湿法刻蚀工艺,制备成本低、工艺简单、适合大规模生产。本发明所述的一种有机发光二极管和有机发光显示装置,采用所述的反射电极,反射率高、导电性能稳定,可有效提高发光效率;而且,所述有机发光显示装置可制成顶发光装置,开口率高,可有效提升画面的显示品质。
搜索关键词: 一种 反射 电极 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
一种反射电极,包括依次堆叠设置在衬底上的第一导电层、导电反射层和第二导电层,其特征在于,所述导电反射层与第二导电层在所述第一导电层所在平面上的投影在所述第一导电层的范围内;所述第一导电层和/或第二导电层为透明导电层;所述的一种反射电极的制备方法,包括如下步骤:在衬底的垂直方向上依次形成由第一导电层材料制得的膜层、由导电反射层材料制得的膜层以及由第二导电层材料制得的膜层;在由第二导电层材料制得的膜层上形成第一光刻胶层,采用湿法刻蚀工艺对由第二导电层材料制得的膜层、由导电反射层材料制得的膜层进行图案化,得到第二导电层和导电反射层;在由第一导电层材料制得的膜层上形成覆盖第一导电层和导电反射层的第二光刻胶层,第二光刻胶层包覆第一导电层和导电反射层的侧边,且第二光刻胶层的侧边与第一导电层形成角度为α的倾角;采用湿法刻蚀工艺对由第一导电层材料制得的膜层进行图案化,得到第一导电层,导电反射层与所述第一导电层相邻侧边的垂直间距大于L,
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