[发明专利]一种氮唑类化合物在提高化学机械抛光液稳定性中的应用有效
| 申请号： | 201410842141.8 | 申请日： | 2014-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN105802508B | 公开（公告）日： | 2020-03-13 |
| 发明（设计）人： | 陈宝明;高嫄;荆建芬;蔡鑫元;张健;宋凯;王雨春 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明旨在提供一种氨基硅烷改性的研磨颗粒制备的抛光液稳定性差的解决方案，通过加入氮唑类化合物可显著提高这种体系的pH、纳米颗粒粒径和抛光速率在储藏期的稳定性。其可在提高这种二氧化硅研磨颗粒抛光液对二氧化硅介电材料的去除速率的同时，提高其pH、纳米颗粒粒径和抛光速率在储藏期的稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 氮唑类 化合物 提高 化学 机械抛光 稳定性 中的 应用 | ||
【主权项】：
一种氮唑类化合物在提高化学机械抛光液稳定性中的应用，所述化学机械抛光液中含有二氧化硅研磨颗粒、氨基硅烷试剂和水。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安集微电子（上海）有限公司，未经安集微电子（上海）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410842141.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种改性淀粉胶黏剂
- 下一篇：松香树脂生产方法及其设备
