[发明专利]一种微纳滤膜的制备方法有效
| 申请号： | 201410842699.6 | 申请日： | 2014-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN104474911A | 公开（公告）日： | 2015-04-01 |
| 发明（设计）人： | 叶向东;蔡安江;张学锋 | 申请（专利权）人： | 西安建筑科技大学 |
| 主分类号： | B01D67/00 | 分类号： | B01D67/00;B01D69/10 |
| 代理公司： | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人： | 徐文权 |
| 地址： | 710055*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明公开一种微纳滤膜的制备方法，该方法工艺简单，利用基底上的表面能差异来进行微纳过滤膜加工，可在滤膜上制作尺寸精确可控的微米或纳米级的直通孔；该方法所制备的微纳滤膜的材料由聚合物构成；其结构为两层膜结构，一层为微纳直通孔的滤芯膜，另一层为多孔的支撑膜。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 滤膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种微纳滤膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)将无机非金属材料基底表面清洗干净；(2)将液态的光刻胶材料涂敷到基底表面，并在基底表面上均匀分布；(3)采用光刻或压印工艺，对基底上的光刻胶进行微米或纳米图形化加工，形成光刻胶的微米或纳米的孔洞阵列结构；(4)对图形化的光刻胶进行后烘处理，提高光刻胶与基底表面的附着力；(5)将具有微米或纳米的孔洞阵列的光刻胶连同基底，放入低表面能涂层溶液中浸泡，使低表面能涂层与基底未被光刻胶覆盖的表面结合；(6)从低表面能溶液中取出基底，吹干；再采用烘箱或热板对基底进行烘干处理；(7)将基底放入溶剂中，利用溶剂去除基底上的光刻胶，从而在基底表面得到具有表面能差异的微米或纳米的孔洞阵列区域；(8)将聚合物树脂溶液涂覆到具有微米或纳米孔洞阵列的表面能差异区域的基底上；聚合物树脂在表面能差异区域的诱导下形成具有微米或纳米孔洞阵列的滤芯膜，组装在基底表面。
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