[发明专利]一种实现均匀排气的等离子体处理设备有效
| 申请号： | 201410844636.4 | 申请日： | 2014-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN105789015B | 公开（公告）日： | 2018-06-29 |
| 发明（设计）人： | 姜银鑫;张辉 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种实现均匀排气的等离子体处理设备，包括多个相邻排列的等离子体处理腔室及一共享的排气泵，所述每个等离子体处理腔室内设置一用于支撑基片的基座，所述每个等离子体处理腔室内环绕所述基座的外围设置一等离子体约束装置，每个所述等离子体约束装置包括第一区域和第二区域，所述第一区域为对应所述排气泵上方的区域，所述第二区域为除所述第一区域之外的区域，所述第二区域的导流主体厚度大于所述第一区域的导流主体厚度，使得气体在经过所述第一区域内的气体通道时所用的时间大于气体经过所述第二区域内的气体通道时所用的时间。实现将用过的反应气体及副产品气体均匀的排出反应腔，保证等离子体处理区域内气流分布的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 第一区域 第二区域 等离子体处理设备 等离子体约束装置 等离子体处理腔 均匀排气 气体通道 排气泵 导流 等离子体处理腔室 等离子体处理区域 室内 副产品气体 反应气体 气流分布 相邻排列 支撑基片 反应腔 均匀性 排出 环绕 外围 共享 保证 | ||
【主权项】：
1.一种实现均匀排气的等离子体处理设备，包括多个相邻排列的等离子体处理腔室及一共享的排气泵，每个所述等离子体处理腔室内设置一用于支撑基片的基座，每个所述等离子体处理腔室内环绕所述基座的外围设置一等离子体约束装置，每个所述等离子体约束装置下方设有排气区域；所述等离子体约束装置包括一导流主体和设置在所述导流主体上的若干气体通道，用于将气体排放至排气区域，其特征在于：所述多个等离子体处理腔室的排气区域至少部分相互邻近并且相互流体连通，以构成一相邻排气区域，所述共享的排气泵设置于所述相邻排气区域的下方，并同时与每个所述等离子体处理腔室的排气区域相互流体连通；每个所述等离子体约束装置包括第一区域和第二区域，所述第一区域为对应位于所述相邻排气区域上方的区域，所述第二区域为除所述第一区域之外的区域，所述第一区域和第二区域气体通道在贯穿所述导流主体的上下表面的方向上为长直通道，所述第一区域的导流主体厚度大于所述第二区域的导流主体厚度，使得气体在经过所述第一区域内的气体通道时所用的时间大于气体经过所述第二区域内的气体通道时所用的时间。
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