[发明专利]一种SMD LED封装基板电镀结构及其电镀工艺在审
申请号: | 201410846177.3 | 申请日: | 2014-12-31 |
公开(公告)号: | CN104451619A | 公开(公告)日: | 2015-03-25 |
发明(设计)人: | 黄琦 | 申请(专利权)人: | 共青城超群科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C18/40 | 分类号: | C23C18/40;C23C18/44;C23C18/36;C23C18/20;C23C18/24;C23C18/30;H01L33/62 |
代理公司: | 中山市铭洋专利商标事务所(普通合伙) 44286 | 代理人: | 邹常友 |
地址: | 江西省九江市共青城新*** | 国省代码: | 江西;36 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明属于SMD LED封装基板制造技术领域,具体的说是涉及一种SMD LED封装基板电镀结构及其电镀工艺,该电镀结构电镀在基材树脂层上,从内层往外依次为铜层、镍层、金层,在金层与镍层之间还电镀有银层。通过改变产品的结构,新的电镀结构大大降低了贵重金属的消耗,金层厚度为以前的1/4,从而为社会节约资源。新的电镀结构还大大降低了生产成本,银的价格是金价格的1/40,整体成本下降了10%。新的电镀结构增强了产品表面结合力,更有利于客户对品质的要求。 | ||
搜索关键词: | 一种 smd led 封装 电镀 结构 及其 工艺 | ||
【主权项】:
一种SMD LED封装基板电镀结构,该电镀结构电镀在基材树脂层(4)上,从内层往外依次为铜层(3)、镍层(2)、金层(1),其特征在于:在金层(1)与镍层(2)之间还电镀有银层(5);所述银层(5)电镀厚度在1.00‑2.00微米之间;所述金层(1)电镀厚度在0.0025‑0.005微米之间;所述镍层(2)电镀厚度在5‑10微米之间;所述铜层(3)电镀厚度在25‑35微米之间;所述基材树脂层(4)的厚度在150‑250微米之间。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于共青城超群科技股份有限公司,未经共青城超群科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410846177.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理