[发明专利]一种含有石墨烯的化学机械抛光液有效
| 申请号： | 201410853223.2 | 申请日： | 2014-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN104592897A | 公开（公告）日： | 2015-05-06 |
| 发明（设计）人： | 刘卫丽;宋志棠 | 申请（专利权）人： | 上海新安纳电子科技有限公司;中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/02 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人： | 梁海莲 |
| 地址： | 201506 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种化学机械抛光液，以所述化学机械抛光液的总质量计，所述化学机械抛光液包括以下组分及重量百分含量：无机纳米颗粒10~50wt%、化学添加剂0.01-5wt%、余量为pH调节剂和水；所述无机纳米颗粒至少包括二氧化硅和石墨烯；以所述化学机械抛光液的总质量计，所述石墨烯的质量百分含量为0.01~10wt%。本发明中公开的化学机械抛光液在抛光蓝宝石等高硬度材料时具有以下有益效果：由于石墨烯颗粒的硬度高，所以抛光速度快；效率高；抛光蓝宝石等高硬度材料的表面粗糙度低，无明显橘皮、腐蚀坑或划伤等缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 含有 石墨 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光液，其特征在于，以所述化学机械抛光液的总质量计，所述化学机械抛光液包括以下组分及重量百分含量：无机纳米颗粒 10～50wt％化学添加剂 0.01‑5wt％余量为pH调节剂和水；所述无机纳米颗粒至少包括二氧化硅和石墨烯；以所述化学机械抛光液的总质量计，所述石墨烯的质量百分含量为0.01～10wt％。
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