[发明专利]一种线状纳米二氧化硅溶胶及其制备方法有效
| 申请号： | 201410854330.7 | 申请日： | 2014-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN104556060A | 公开（公告）日： | 2015-04-29 |
| 发明（设计）人： | 梁晨亮;刘卫丽;宋志棠 | 申请（专利权）人： | 上海新安纳电子科技有限公司;中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
| 主分类号： | C01B33/141 | 分类号： | C01B33/141;C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人： | 郭婧婧;许亦琳 |
| 地址： | 201506 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及CMP技术抛光领域，特别是涉及一种线形二氧化硅溶胶及其制备方法。本发明提供一种线状二氧化硅溶胶，包括液体介质和溶胶颗粒，所述溶胶颗粒为线状二氧化硅颗粒。本产品的有益效果是：通过特选的酸性溶液与处理方法，形成线状二氧化硅溶胶。由于二氧化硅胶体颗粒为线状，其在芯片上的拖曳面积比单一球状的粒子要显著增大，故而能够提高抛光速率。同时，由于线状二氧化硅颗粒自身有一定的柔软度，对芯片的损伤也较煅烧二氧化硅较小。使用本发明的线状纳米二氧化硅颗粒作为CMP研磨颗粒，能有效提高抛光速率与降低表面损伤。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 线状 纳米 二氧化硅 溶胶 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种线状二氧化硅溶胶，包括液体介质和溶胶颗粒，所述溶胶颗粒为线状二氧化硅颗粒。
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