[实用新型]一种新型真空电子束熔炼炉有效

专利信息
申请号: 201420005431.2 申请日: 2014-01-04
公开(公告)号: CN203768482U 公开(公告)日: 2014-08-13
发明(设计)人: 王建军;康朝阳;单继周;闫海洋 申请(专利权)人: 登封电厂集团铝合金有限公司
主分类号: C30B15/00 分类号: C30B15/00;C30B29/06;C01B33/037
代理公司: 北京东方汇众知识产权代理事务所(普通合伙) 11296 代理人: 白洁
地址: 45247*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 实用新型公开了一种新型真空电子束熔炼炉,通过将分别设置于第一电子枪、第二电子枪、第三电子枪、第四电子枪下方的第一水冷坩埚、第二水冷坩埚、第三水冷坩埚、结晶坩埚顺序连接,先后除去硅料中的硼、磷、金属杂质并对硅料进行二次纯化后,再通过设置在结晶坩埚上方的直拉法单晶装置生产出单晶硅。本实用新型所提供的新型真空电子束熔炼炉设计合理、使用方便,且提出效果好,工艺更加连续,其硅料的提纯、连续精炼以及拉单晶等过程集约在一起,避免了现有固体硅料需要多次重熔的缺点,极大地降低了能耗。
搜索关键词: 一种 新型 真空 电子束 熔炼炉
【主权项】:
一种新型真空电子束熔炼炉,包括炉体以及设置于炉体上的进料装置和单晶拉制装置,其特征在于,所述炉体上壁从左至右依次设置有第一电子枪、第二电子枪、第三电子枪、第四电子枪,第一电子枪、第二电子枪、第三电子枪、第四电子枪的下方对应设置有第一水冷坩埚、第二水冷坩埚、第三水冷坩埚、结晶坩埚,第一水冷坩埚、第二水冷坩埚、第三水冷坩埚、结晶坩埚依次连接并呈阶梯状排列,结晶坩埚套设于结晶坩埚下方设置的石墨坩埚中,石墨坩埚下方设置有坩埚上升旋转机构;所述进料装置的出料口设置于第一水冷坩埚的上方,单晶拉制装置设置于结晶坩埚的上方。
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