[实用新型]一种光刻标记结构有效
| 申请号： | 201420019121.6 | 申请日： | 2014-01-13 |
| 公开（公告）号： | CN203720532U | 公开（公告）日： | 2014-07-16 |
| 发明（设计）人： | 邹永祥 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种光刻标记结构，包括第一测试标记和第二测试标记，所述第一测试标记包括内层结构和外层结构，所述外层结构包围内层结构，所述外层结构包括多个第一外层子结构和多个第二外层子结构，所述第二测试标记包括多个第三子结构和多个第四子结构，其中第三子结构设置于第一外层子结构内，第四子结构包围第二外层子结构。通过第二测试标记与第一测试标记的位置关系判断关键尺寸及套准精度，将关键尺寸及套准精度测量结合起来，测量步骤简单，效率高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 标记 结构 | ||
【主权项】：
一种光刻标记结构，其特征在于，包括第一测试标记和第二测试标记，所述第一测试标记包括内层结构和包围所述内层结构的外层结构，所述外层结构包括多个第一外层子结构和多个第二外层子结构，所述第二测试标记包括多个第三子结构和多个第四子结构，所述第三子结构设置于所述第一外层子结构内，所述第四子结构包围所述第二外层子结构。
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