[实用新型]一种宽视场光谱成像系统辅助装调装置有效

专利信息
申请号: 201420028377.3 申请日: 2014-01-17
公开(公告)号: CN203772413U 公开(公告)日: 2014-08-13
发明(设计)人: 袁立银;何志平;陈爽;舒嵘 申请(专利权)人: 中国科学院上海技术物理研究所
主分类号: G01J3/28 分类号: G01J3/28;G01J3/26
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人: 郭英
地址: 200083 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 专利公开了一种宽视场光谱成像系统的辅助装调装置,在平行光管和待装调光谱成像系统之间的准直光路中放入宽视场产生部分,将平行光管出射的准直光折转一个略小于光谱成像系统半视场角的角度后进入待装调系统,经待装调系统分光成像在探测器上;在待装调系统前放入单色光产生部分,复色光源经两块不同光谱特征的窄带滤光片后将待装调系统的内部视场光栏狭缝成像在探测器上。本专利解决了宽视场光谱成像系统装调过程中探测器上不易同时接收两端点视场光谱像的问题;解决了宽视场光谱成像系统装调过程中探测器上不同时接收两条全视场单色像的问题,提高了宽视场光谱成像系统装调精度,缩短了装调周期。
搜索关键词: 一种 视场 光谱 成像 系统 辅助 装置
【主权项】:
一种宽视场光谱成像系统辅助装调装置,它包括宽视场产生部分和准单色光产生部分,其特征在于:所述的宽视场产生部分由光学底板(1)、两片分居于待装调系统两侧半视场角附近的第一平面反射镜(2)和第二平面反射镜(3)、对应的第一调整架(4)和第二调整架(5)组成;所述的平面镜(2,3)面形精度优于λ/5,不影响待装调系统像质,纵向尺寸不小于待装调系统入射口径,横向尺寸不小于待装调系统入射口径除以半视场正弦的商值;所述的调整架(4,5)是一个二维角度调整件和一个高精度一维转台的组合,用以调整平面镜的偏摆和俯仰二维角度;所述的准单色光产生部分由复色光源(6)、两块位于待装调系统入口附近的第一窄带滤光片(7)和第二窄带滤光片(8)组成;所述的两块窄带滤光片(7,8),其透过带宽与待装调系统的光谱采样率尽量接近,两块窄带滤光片的透过波长在待装调系统探测器上可以分开;所述的复色光源(6)位于平面镜(2,3)中间,其发光光谱覆盖第一窄带滤光片(7)和第二窄带滤光片(8)的透过光谱。
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