[实用新型]干燥装置及具有该干燥装置的清洗机有效
申请号: | 201420037783.6 | 申请日: | 2014-01-21 |
公开(公告)号: | CN203785372U | 公开(公告)日: | 2014-08-20 |
发明(设计)人: | 陈定平;左迪建 | 申请(专利权)人: | 北大方正集团有限公司;深圳方正微电子有限公司 |
主分类号: | F26B5/08 | 分类号: | F26B5/08 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 刘芳 |
地址: | 100871 北京市海*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型提供一种干燥装置及具有该干燥装置的清洗机。该干燥装置包括:水平设置的转盘;所述转盘包括底板和形成于所述底板周围的侧壁,所述底板和侧壁围成用于容置晶片架的空间;所述底板底部形成有用于带动所述转盘绕中心旋转的驱动轴。本实用新型的干燥装置及具有该干燥装置的清洗机,其干燥装置可以实现在不加热的情况下,利用离心力将晶片架上的液滴甩出,缩短了干燥所需时间,提高了干燥效率,也在保证了良好的干燥效果的同时,避免晶片架过热变形,保证了晶片架质量。 | ||
搜索关键词: | 干燥 装置 具有 清洗 | ||
【主权项】:
一种干燥装置,其特征在于,包括:水平设置的转盘;所述转盘包括底板和形成于所述底板周围的侧壁,所述底板和侧壁围成用于容置晶片容置件的空间;所述底板底部形成有用于带动所述转盘绕中心旋转的驱动轴;在所述侧壁内、且在所述底板中心垂直设置有定位柱;所述侧壁内表面上形成有用于卡合所述晶片容置件底部支脚的第一卡槽,所述定位柱侧面形成有用于配合所述第一卡槽固定所述晶片容置件的第二凹槽;所述定位柱呈正四棱柱状,所述定位柱的四个侧面上分别设置有所述第二凹槽,所述侧壁内表面分别设置有与每个所述第二凹槽相对的两个所述第一卡槽。
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