[实用新型]一种分子束外延大规模生产设备中的衬底托板有效
| 申请号： | 201420043728.8 | 申请日： | 2014-01-23 |
| 公开（公告）号： | CN203728962U | 公开（公告）日： | 2014-07-23 |
| 发明（设计）人： | 杜全钢;李维刚;谢小刚;姜炜;冯巍;郭永平;蒋建 | 申请（专利权）人： | 新磊半导体科技（苏州）有限公司 |
| 主分类号： | C30B23/02 | 分类号： | C30B23/02;C23C16/458 |
| 代理公司： | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人： | 张慧 |
| 地址： | 215151 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种分子束外延大规模生产设备中的衬底托板，该衬底托板包括衬底片的台阶、阻挡热辐射圆环的台阶、限制阻挡热辐射圆环移动的台阶，三个台阶均为环形结构，该衬底托板为一圆形通孔；本实用新型中通过减小放置衬底的台阶宽度，从而减小衬底与托板间的接触面积，增大了生长过程中衬底的可生长面积；该实用新型与传统的衬底生长托板相比，增大了外延片的可利用面积，减少了对衬底表面的污染，提高了品质和成品率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 分子 外延 大规模 生产 设备 中的 衬底 | ||
【主权项】：
一种分子束外延大规模生产设备中的衬底托板，其特征在于：该衬底托板包括衬底片的台阶（1）、阻挡热辐射圆环的台阶（2）、限制阻挡热辐射圆环移动的台阶（3），三个台阶均为环形结构，该衬底托板为一圆形通孔；阻挡热辐射圆环的台阶（2）在衬底片的台阶（1）和限制阻挡热辐射圆环移动的台阶（3）之间；所述衬底片的台阶（1）、阻挡热辐射圆环的台阶（2）、限制阻挡热辐射圆环移动的台阶（3）是以圆形通孔为中心的台阶结构。
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