[实用新型]薄膜表面改质装置及偏光膜制造装置有效
申请号: | 201420056887.1 | 申请日: | 2014-01-29 |
公开(公告)号: | CN203894429U | 公开(公告)日: | 2014-10-22 |
发明(设计)人: | 西乡公史;原宽高;祝部学 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 岳雪兰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本实用新型提供一种薄膜表面改质装置及偏光膜制造装置,薄膜表面改质装置(5)包括:处理辊(52),其与地面电连接,用于输送薄膜(F);放电电极(53,54),其放电端(531,541)与处理辊(52)的表面(S)相对设置;供电部(55),其与放电电极(53,54)电连接,用于向该放电电极(53,54)通电,从而在该放电电极(53,54)与处理辊(52)之间发生电晕放电。根据本实用新型,能够容易地提高薄膜单面的亲水性。 | ||
搜索关键词: | 薄膜 表面 装置 偏光 制造 | ||
【主权项】:
一种薄膜表面改质装置,其特征在于,包括: 处理辊,其与地面电连接,用于输送薄膜; 放电电极,其放电端与所述处理辊的表面相对设置; 供电部,其与所述放电电极电连接,用于向所述放电电极通电,从而在该放电电极与所述处理辊之间发生电晕放电。
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